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半导体硅片抛光用片状氧化铝

发布时间:2025-02-27 15:51:53来源: 人气:
平板状氧化铝抛光粉是以优质工业氧化铝粉为原料,采用特殊生产工艺处理,生产出来的氧化铝抛光粉晶体形状呈六角平板状,因而称之为平板状氧化铝或片状氧化铝。

平板状氧化铝的氧化铝纯度 99%以上,具有耐热,耐酸碱腐蚀,硬度高的特点。与传统磨料球形颗粒不同,平板状氧化铝的底面平整,研磨时颗粒贴合工件表面,产生滑动的研磨效果,避免了颗粒尖角对工件表面的划伤,另一方面,平板状氧化铝进行研磨时,研磨压力是均匀分布在颗粒表面,颗粒不易破碎,耐磨性能提高,从而提高了研磨效率和表面光洁度。
物理指标

化学名称 颜色 比重 莫氏硬度
α-AL2O3 白色 >3.9 9.0
 
化学指标

AL2O3 SiO2 Fe2O3 Na2O
>99.0 <0.2 <0.1 <1

粒度分布表 单位微米(μm)
产品名称 最大粒径
(dv-0值)
累积高度3%点的粒径(dv-3值) 累积高50%点
的粒径(dv-50值)
累积高94%点
粒径(dv-94值)
 
CA50 <102   42.81-52.5 16-17.0
CA40 <77.6 39-44.6 27.7-31.7 18-20
CA35 <64.2 35.4-39.8 23.8-27.2 15-17
CA30 <50.4 28.1-32.3 19.2-22.3 13.4-15.6
CA25 <40.1 24.4-28.2 16.1-18.7 9.6-11.2
CA20 <32.0 20.9-24.1 13.1-15.3 8.2-9.8
CA15 <25.2 14.8-17.2 9.4-11 5.8-6.8
CA12 <20.3 11.8-13.8 7.6-8.8 4.5-5.3
CA09 <16.3 8.9-10.5 5.9-6.9 3.3-3.9
CA05 <12.5 6.6-7.8 4.3-5.1 2.55-3.05
CA03 <10.0 4.8-5.6 2.8-3.4 1.5-2.1

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